产品名称 | 执行标准 | 纯度10m (v/v) |
工业氧 | GB/T 3863-2008 | ≥99.2 |
工业氮 | GB/T 3864-2008 | ≥99.5 |
纯氮 | GB/T 8979-2008 | ≥99.99 |
纯氩 | GB/T 4842-2006 | ≥99.99 |
二氧化碳 | HG/T 2537-1993 | ≥99.5 |
氧气的主要用途:
金属处理 | 化工和冶金 | 半导体制造 | 国防工业 | 医疗保健 |
焊接及切割金属 | 化工和治金中的强氧化剂、制造水煤气和天然气、低温氧化石油气 | 半导体制造用等离子蚀刻、氧化、扩散、化学气相淀积、光导纤维的制备 | 液氧是现代火箭最好的助燃剂,在超音速飞机中也需要液氧作氧化剂,可燃物质浸渍液氧后具有强烈的爆炸性,可制作液氧炸药。 | 供给呼吸:用于缺氧、低氧或无氧环境,例如:潜水作业、登山运动、高空飞行、宇宙航行、医疗抢救等时。 |
氩气的主要用途:
金属处理 | 不锈钢制造 | 惰性保护 | 半导体工业 | 标准物 |
用于焊接 | 不锈钢制造、冶炼 | 惰性保护介质 | 用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅钨化、离子注入、载流、烧结等 | 用作标准气、平衡气、零点气等。 |
氮气的主要用途:
化合物制造 | 惰性保护 | 制冷剂 | 电子工业 | 标准物 |
化肥、氨、硝酸等化合物的制造 | 惰性保护介质,速冻食品 | 低温粉碎等的制冷剂、冷却剂 | 电子工业中的外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻等 | 用作标准气、校正气、零点气、平衡气等 。 |
二氧化碳的主要用途:
金属处理 | 消防灭火 | 工业应用 | 食品行业 | 其它应用 |
焊接、铸造工业 | 灭火剂,冷却剂。某些反应的惰性介质 | 碳酸盐类的制造、杀虫剂、氧化防止剂、植物生长促进剂、发酵工业、药品(局部麻醉)、制糖工业、胶及动物胶制造等。 | 鱼类、奶油、奶酪、冰糕等的保存, 清凉饮料,蔬菜保鲜 | 在半导体制造中氧化、扩散、化学气相淀积,石墨反应器的热载体,输送易燃液体的压入气体,标准气,校正气,在线仪表标准气,特种混合气。 |
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